Плотников В.Г., Смирнов В.А., Алфимов М.В., Шульга Ю.М. Химия высоких энергий
ВАКIF 0,938RSCI
ТИП ПУБЛИКАЦИИстатья в журнале - научная статья
ГОД2011
ЯЗЫКRU
ЦИТИРОВАНИЙ6
АННОТАЦИЯ
Рассмотрены механизмы диссоциации кислородсодержащих фрагментов (ОН, НСО, СООН) при фотовосстановлении оксида графита УФ-светом. Сделан вывод, что фотовосстановление отрыв ОН-группы и молекулярный отрыв СО и СО2 происходит в синглетных возбужденных состояниях. Энергетический порог процессов фотовосстановления определяется положением отталкивательных термов системы.
ЦИТАТА
О МЕХАНИЗМЕ ФОТОВОССТАНОВЛЕНИЯ ОКСИДА ГРАФИТА / В.Г. Плотников, В.А. Смирнов, М.В. Алфимов, Ю.М. Шульга // Химия высоких энергий. – 2011. – Т. 45. – № 5. – С. 445-449
